「OPIE ’19」開催
高精度ニーズが高まるレーザ加工分野
光・レーザ・フォトニクスの総合展示会「OPIE ’19」（OPTICS&PHOTONICS International Exhibition 2019）が4月24日から26日までの3日間、パシフィコ横浜で開催された。
同展は「レーザーEXPO」「レンズ設計・製造展」など6つの展示会で構成される。さまざまなセミナーやイベント、光に関する国際会議「OPIC 2019」などを同時開催していることから、レーザや光関連の大学・研究機関や企業のトップレベルの研究者・技術者が国内外から参加する光技術に関する日本最大級の展示会と言われている。期間中の来場者数は同時開催イベントも含めて1万6,709人となり、過去最多だった前回を上回った。
トルンプは高反射材への安定した加工を得意とするパルスレーザ「TruDisk Pulse 421」を出展した
フジクラは高パワー密度照射で高速加工や難加工材の加工が可能なシングルモードファイバーレーザ（5kW）を出展した
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