「OPIE’18」開催
新たなイノベーションを生み出すレーザ技術の可能性
天田財団の「レーザプロセッシング助成研究成果発表会」も併催
国内最大規模の光学関連展示会
光・レーザー・フォトニクスの総合展示会「OPIE’18」（OPTICS&PHOTONICS International Exhibition 2018）が4月25日から27日までの3日間、パシフィコ横浜で開催された。運営は㈱オプトロニクス社、統括主催は一般社団法人OPI協議会。同展は「レーザーEXPO」「レンズ設計・製造展」「赤外・紫外応用技術展」「産業用カメラ展」「メディカル&イメージングEXPO」「宇宙・天文光学EXPO」「ポジショニングEXPO」の7展から構成される。併設セミナーや併催イベントも多く、光学関連の国際学術会議「OPIC2018」も同時開催されることから、国内最大規模の光学関連展示会といわれている。
今回の出展者数は同時開催イベントも含めて372社・団体、小間数は523小間、来場者数は3日間で1万6,103名と、いずれも過去最高だった前回を上回っている。
天田財団・片山聖二評議員（大阪大学名誉教授）による発表会の趣旨説明
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